球磨后Ti（C，N）粉的粒度分布，是經(jīng)過不同時間球磨后Ti（C，N）粉的TEM觀察，是在不同球料比球磨后Ti（C，N）粉的TEM觀察。粉末冶金法所用的粒子大小為lO-lOVm.用電子顯微鏡特別是用碳復(fù)型法觀察微粒時，即可查明，通常所想像的一個粒子是由很多小粒組成。這種小粒稱為原始粒子，并且?guī)缀醪豢赡軐⑦@種粒子完全分散開。因此，我們所測定的粒度一般不是原始粒子，而是其聚集體二次粒子的大小。
隨著球磨時間和球料比的增加，粉末的平均粒徑減小，粉末得到細(xì)化。球磨后粉末顆粒外形越來越不規(guī)則。不論是粉末的粒徑減小，還是其外形變得不規(guī)則，都使粉末的表面活性得到大大提高，從而為以后的燒結(jié)過程提供動力并使燒結(jié)變得容易進(jìn)行，因而降低了燒結(jié)溫度。試驗和理論均表明，細(xì)晶粒材料的性能優(yōu)于粗大晶粒材料，這是其原因之一。
從隨球磨時間和球料比的增加，粉末粒度不斷減小。因為在球磨過程中，粉末顆粒在外力的作用下會發(fā)生塑性變形，并在其顆粒內(nèi)部產(chǎn)生位錯列，它具有進(jìn)一步細(xì)化微粉顆粒，形成很多小相干散射疇的效應(yīng)。這些疇就像小晶體（微晶）一樣，并且彼此之間具有較大的位向差536，因此，可將這些具有較大位向差的小晶體稱為碳化物相微晶化576.由位錯引起的微粉顆粒微晶化和彈性畸變，可從X射線衍射譜線的增寬得到證實556，其微晶化程度可用"射線衍射譜線的增寬得到反映。為此，我們用M值來衡量微晶化程度，則有536粉末衍射峰的半高寬之差的絕對值；根據(jù)各試樣的X射線衍射圖和式（1）可得到干磨時微晶化程度隨時間變化曲線、濕磨時微晶化程度隨時間變化曲線、微晶化程度隨球料比變化曲線，衍射峰的高度是隨球磨時間的增加而減小，隨球料比的增加而減小。分析認(rèn)為：由于行星球磨是通過擊碎和磨削等多方面作用的結(jié)果，經(jīng)球磨后，在粉末顆粒中存在著微觀內(nèi)應(yīng)力，并因粉末在球磨過程中變形引入大量位錯和空位，在缺陷周圍產(chǎn)生點陣畸變和應(yīng)力場，它會造成非布拉格反射，形成漫散射，所以導(dǎo)致衍射峰下降。
